간편한 공정으로 독성 없는 P형 양자점 개발 썸네일
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간편한 공정으로 독성 없는 P형 양자점 개발

기술분야

P형 양자점 반도체

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AI 요약

기존 p형 양자점 제조 방식은 독성 중금속(Cd) 사용과 복잡한 후속처리 공정으로 인해 환경 문제와 생산 효율성 저하라는 한계를 안고 있었습니다. 본 기술은 이러한 문제점을 해결하고자 독성이 적은 아연(Zn)을 도핑하여 친환경 p형 양자점을 개발하고, 이를 간편하게 제조하는 방법을 제시합니다. 본 발명은 복잡한 후속처리 공정 없이 단 한 번의 합성으로 양자점을 제조할 수 있어 생산 효율이 획기적으로 개선됩니다. 또한, 아연 함량 조절을 통해 양자점의 도핑 정도와 전기적 특성을 정밀하게 제어하며, 표면 결함까지 제거하여 우수한 전기적 및 광학적 특성을 확보합니다. 이 아연 도핑 p형 양자점은 태양전지, 고휘도 LED, 바이오 센서 등 다양한 차세대 전자 소자에 폭넓게 적용 가능합니다. 친환경적이면서도 고성능을 제공하는 본 기술은 미래 반도체 산업의 핵심 기반이 될 것으로 기대됩니다.

기본 정보

기술명
아연이 도핑된 양자점 및 이의 제조 방법
기관명
서강대학교
대표 연구자공동연구자
강문성-
출원번호등록번호
10202401413121027969180000
권리구분출원일
특허2024.10.16
중요 키워드
III-V족 화합물발광 다이오드아연 도핑반도체 특성 제어고효율 소자광전자 소자양자점간편 제조 공정신소재친환경 소재나노 기술양자점 응용전자 소자p형 반도체태양전지반도체소자무기화학

기술완성도 (TRL)

기본원리 파악
기본개념 정립
기능 및 개념 검증
연구실 환경 테스트
유사환경 테스트
파일럿 현장 테스트
상용모델 개발
실제 환경 테스트
사업화 상용운영

기술 소개

매도/매수 절차

기술이전 상담신청

연구자 미팅

기술이전 유형결정

계약서 작성 및 검토

계약 및 기술료 입금

서강대학교
문의처

서강대학교

담당자서강대학교산학협력단
이메일tlo@sogang.ac.kr
연락처02-3274-4863

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