본 발명은 기존 탄소 나노물질의 한계를 극복하기 위해, 메조다공성 무기 주형의 내부 표면을 각인한 3차원 메조다공성 그래핀 구조체를 저비용의 습식 화학반응으로 제조하는 방법을 제안합니다. 팔라듐 코팅, 금속 도금, 유기고분자 유입, 어닐링 및 금속 제거 단계를 포함하여 기공 크기가 조절된 그래핀을 형성합니다. 이 그래핀 구조체는 높은 비표면적, 우수한 전기 전도성, 기계적 강도 및 화학적 안정성을 가지므로, 촉매, 전극, 에너지 저장 매체 등 다양한 분야에 효율적으로 활용될 수 있습니다. 본 기술은 차세대 고성능 소재 개발에 기여할 것으로 기대됩니다.