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기존 1T/1C 디램은 커패시터 미세화의 한계로 고집적화에 어려움이 있었으며, MOSFET 기반의 1T 디램은 셀 축소화 및 고온 동작 안정성에 제한이 있었습니다. 본 발명은 이러한 문제점을 해결하고자 터널링 전계효과 트랜지스터(TFET)를 활용한 혁신적인 1T 디램 셀 소자 및 그 제조 방법을 제안합니다. 소스 영역 하부에 특정 불순물을 도핑하여 바디 영역에 안정적인 전위우물을 형성함으로써, MOSFET 기반 소자의 한계를 극복하고 저전압 및 고온에서도 안정적으로 동작하는 고집적 1T 디램 구현이 가능합니다. 이 기술은 통상적인 TFET 공정을 활용하여 제조 효율성을 높이고, 간소화된 어레이 배선으로 생산 비용 절감에도 기여합니다.
기술명 | |
터널링 전계효과 트랜지스터를 이용한 1t 디램 셀 소자와 그 제조방법 및 이를 이용한 메모리 어레이 | |
기관명 | |
서강대학교산학협력단 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
최우영 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020150157129 | 1020322210000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2015.11.10 |
중요 키워드 | |
전위우물 형성메모리 어레이 설계SOI 기판 활용DRAM 고집적화커패시터리스 DRAM고온 안정성 반도체TFET 기술비트 라인 워드 라인저전력 메모리1T 디램 셀 소자터널링 전계효과 트랜지스터시스템 반도체 기술밴드 대 밴드 터널링반도체 소자 제조반도체제조반도체소자 |
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