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기존 유연 기판 상 나노박막 제조는 대량 생산에 한계가 있었습니다. 본 기술은 롤투롤 공정을 위한 화학기상 증착법(CVD)을 활용하여 유연 기재 위에 고품질 이황화 몰리브덴 및 이황화 텅스텐 나노박막을 직접 대면적으로 제조하는 혁신적인 방법을 제시합니다. 이 공정은 유연 기재의 결정 구조를 개선하고 불순물 생성을 최소화하여 고순도 박막을 형성합니다. 이를 통해 차세대 유연 반도체, 전계효과 트랜지스터, 광센서 등의 소자를 신속하고 효율적으로 대량 생산할 수 있습니다.
기술명 | |
롤투롤 공정을 위한 화학기상 증착법을 이용한 유연 기재 상의 이황화 몰리브덴 나노박막 또는 이황화 텅스텐 나노박막 제조방법 | |
기관명 | |
성균관대학교산학협력단서강대학교산학협력단 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
정현식 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020160064622 | 1018486730000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2016.05.26 |
중요 키워드 | |
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