
고전압 신뢰성 강화 SiC MOSFET 기술 개발
AI 요약
본 발명은 고전압 환경에서 기존 MOSFET의 신뢰성 및 성능 한계를 극복하는 혁신적인 MOSFET 소자 및 그 제조 방법을 제안합니다. 특히, 모스 채널 다이오드가 내장되고 소스 바이어스된 p+ 쉴딩 영역을 도입하여 소자 신뢰성을 획기적으로 향상시켰습니다. 이 기술은 모스 채널 게이트 하단의 산화막에 걸리는 전계를 낮춰 얇은 산화막 형성(예: 4~6nm)을 가능하게 하며, 3.3kV급 고전압에서도 뛰어난 신뢰성을 확보합니다. 결과적으로 다이오드 턴 온 전압이 감소하고, 고온에서의 역방향 누설 전류가 줄어 정적 특성이 개선됩니다. 또한, 낮은 게이트-드레인 커패시턴스로 스위칭 시간 및 손실이 감소하여 동적 특성 또한 향상됩니다. 본 기술은 차세대 전력반도체 시장에서 고효율, 고신뢰성 MOSFET 소자 개발의 핵심이 될 것입니다.
기본 정보
기술명 | |
Mosfet 소자 및 그 제조 방법 | |
기관명 | |
서강대학교 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
김광수 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020220034054 | 1025832350000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2022.03.18 |
중요 키워드 | |
MOSFETp+ 쉴딩 영역반도체 신뢰성전력반도체반도체 제조스위칭 손실 저감다이오드 턴 온 전압SiC와이드 밴드갭전력 효율 향상모스 채널 다이오드낮은 온저항고온 안정성고전압 소자차세대 반도체반도체소자 |
기술완성도 (TRL)
기본원리 파악
기본개념 정립
기능 및 개념 검증
연구실 환경 테스트
유사환경 테스트
파일럿 현장 테스트
상용모델 개발
실제 환경 테스트
사업화 상용운영
기술 소개
매도/매수 절차
기술이전 상담신청
연구자 미팅
기술이전 유형결정
계약서 작성 및 검토
계약 및 기술료 입금

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