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반도체소자

고전압 신뢰성 강화 SiC MOSFET 기술 개발

기술분야

SiC 전력반도체 소자

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AI 요약

본 발명은 고전압 환경에서 기존 MOSFET의 신뢰성 및 성능 한계를 극복하는 혁신적인 MOSFET 소자 및 그 제조 방법을 제안합니다. 특히, 모스 채널 다이오드가 내장되고 소스 바이어스된 p+ 쉴딩 영역을 도입하여 소자 신뢰성을 획기적으로 향상시켰습니다. 이 기술은 모스 채널 게이트 하단의 산화막에 걸리는 전계를 낮춰 얇은 산화막 형성(예: 4~6nm)을 가능하게 하며, 3.3kV급 고전압에서도 뛰어난 신뢰성을 확보합니다. 결과적으로 다이오드 턴 온 전압이 감소하고, 고온에서의 역방향 누설 전류가 줄어 정적 특성이 개선됩니다. 또한, 낮은 게이트-드레인 커패시턴스로 스위칭 시간 및 손실이 감소하여 동적 특성 또한 향상됩니다. 본 기술은 차세대 전력반도체 시장에서 고효율, 고신뢰성 MOSFET 소자 개발의 핵심이 될 것입니다.

기본 정보

기술명
Mosfet 소자 및 그 제조 방법
기관명
서강대학교
대표 연구자공동연구자
김광수-
출원번호등록번호
10202200340541025832350000
권리구분출원일
특허2022.03.18
중요 키워드
MOSFETp+ 쉴딩 영역반도체 신뢰성전력반도체반도체 제조스위칭 손실 저감다이오드 턴 온 전압SiC와이드 밴드갭전력 효율 향상모스 채널 다이오드낮은 온저항고온 안정성고전압 소자차세대 반도체반도체소자

기술완성도 (TRL)

기본원리 파악
기본개념 정립
기능 및 개념 검증
연구실 환경 테스트
유사환경 테스트
파일럿 현장 테스트
상용모델 개발
실제 환경 테스트
사업화 상용운영

기술 소개

매도/매수 절차

기술이전 상담신청

연구자 미팅

기술이전 유형결정

계약서 작성 및 검토

계약 및 기술료 입금

서강대학교
문의처

서강대학교

담당자서강대학교산학협력단
이메일tlo@sogang.ac.kr
연락처02-3274-4863

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