기술이전 상세 정보를 불러오는 중입니다...
기존 MOSFET 소자는 슈퍼 접합 구조의 한계로 인해 바디 다이오드의 역회복 특성이 저하되고 고주파 작동에 제약이 있었습니다. 이러한 문제를 해결하기 위해 본 발명은 이종 접합 다이오드(HJD)를 적용한 혁신적인 MOSFET 소자 및 그 제조 방법을 제시합니다. 이 기술은 게이트 패턴 하부에 p-타입 폴리실리콘층과 n-타입 필라로 구성된 이종 접합 다이오드를 집적하여, 소자의 역회복 전하 및 역회복 시간을 획기적으로 감소시킵니다. 또한, p-타입 쉴딩 패턴을 형성하여 게이트 산화막에 가해지는 높은 전계를 방지함으로써 소자의 신뢰성을 크게 향상시킵니다. 본 기술은 고성능 전력 반도체 시장의 발전에 기여할 핵심 솔루션입니다.
기술명 | |
Mosfet 소자 및 그 제조 방법 | |
기관명 | |
서강대학교 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
김광수 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020190156978 | 1022442000000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2019.11.29 |
중요 키워드 | |
반도체제조방법반도체혁신MOSFET전력반도체역회복특성소자신뢰성전력효율향상SiC전력소자트렌치MOSFET이종접합다이오드쉴딩패턴기술고주파스위칭차세대반도체HJD기술바디다이오드개선전자회로반도체소자 |
기술이전 상담신청
연구자 미팅
기술이전 유형결정
계약서 작성 및 검토
계약 및 기술료 입금
보유 기술 로딩 중...
인기 게시물 로딩 중...