기술이전 상세 정보를 불러오는 중입니다...
기존 실리콘카바이드(SiC) 트랜지스터는 높은 온저항과 낮은 항복 전압, 큰 소자 면적 등의 한계가 있었습니다. 본 발명은 게이트 구조물의 측면과 하부에 채널 영역을 형성하는 새로운 실리콘카바이드 트랜지스터 및 제조 방법을 제공합니다. 이를 통해 높은 전류 밀도와 낮은 온저항을 구현하며, 전계 분산으로 높은 항복 전압을 달성합니다. 또한, 컨택 영역 최적화로 칩 소형화 및 고속 스위칭 특성을 유지하여 차세대 고성능 전력 반도체 소자 개발에 기여합니다.
기술명 | |
실리콘카바이드 트랜지스터 및 이의 제조방법 | |
기관명 | |
서강대학교 | |
대표 연구자 | 공동연구자 |
김광수 | - |
출원번호 | 등록번호 |
1020200080787 | 1025315540000 |
권리구분 | 출원일 |
특허 | 2020.07.01 |
중요 키워드 | |
SiC 전력 반도체트렌치 MOSFET실리콘카바이드 트랜지스터와이드밴드갭 반도체고전압 스위칭초소형 반도체DMOSFET 개선고속 스위칭 소자트랜지스터 제조방법항복전압 개선전류 밀도 향상반도체 소형화전계 분산저온저항채널 형성 기술반도체소자 |
기술이전 상담신청
연구자 미팅
기술이전 유형결정
계약서 작성 및 검토
계약 및 기술료 입금
보유 기술 로딩 중...
인기 게시물 로딩 중...